Optisch ontwerp heeft een breed scala aan toepassingen in het halfgeleidingsveld. In een fotolithografische machine is het optische systeem verantwoordelijk voor het focussen van de lichtstraal die door de lichtbron wordt uitgezonden en op de siliciumwafel te projecteren om het circuitpatroon bloot te leggen. Daarom is het ontwerp en de optimalisatie van optische componenten in het fotolithografiesysteem een belangrijke manier om de prestaties van de fotolithografiemachine te verbeteren. De volgende zijn enkele van de optische componenten die worden gebruikt in fotolithografiemachines:
Projectiedoelstelling
01 De projectiedoelstelling is een belangrijke optische component in een lithografiemachine, meestal bestaande uit een reeks lenzen, waaronder convexe lenzen, concave lenzen en prisma's.
02 De functie ervan is om het circuitpatroon op het masker te verkleinen en het te concentreren op de wafel bedekt met fotoresist.
03 De nauwkeurigheid en prestaties van de projectiedoelstelling hebben een beslissende invloed op de resolutie en beeldvormingskwaliteit van de lithografiemachine
Spiegel
01 Spiegelworden gebruikt om de richting van het licht te wijzigen en naar de juiste locatie te leiden.
02 In EUV -lithografiemachines zijn spiegels bijzonder belangrijk omdat EUV -licht gemakkelijk kan worden opgenomen door materialen, dus spiegels met een hoge reflectiviteit moeten worden gebruikt.
03 De oppervlakte -nauwkeurigheid en stabiliteit van de reflector hebben ook een grote impact op de prestaties van de lithografiemachine.
Filters
01 filters worden gebruikt om ongewenste golflengten van licht te verwijderen, waardoor de nauwkeurigheid en kwaliteit van het fotolithografieproces worden verbeterd.
02 Door het juiste filter te selecteren, kan worden gewaarborgd dat alleen het licht van een specifieke golflengte de lithografiemachine binnenkomt, waardoor de nauwkeurigheid en stabiliteit van het lithografieproces wordt verbeterd.
Prisma's en andere componenten
Bovendien kan de lithografische machine ook andere extra optische componenten gebruiken, zoals prisma's, polarisatoren, enz., Om aan specifieke lithografie -eisen te voldoen. De selectie, het ontwerp en de productie van deze optische componenten moet strikt de relevante technische normen en vereisten volgen om de hoge precisie en efficiëntie van de lithografiemachine te waarborgen.
Samenvattend is de toepassing van optische componenten op het gebied van lithografiemachines tot doel de prestaties en productie -efficiëntie van lithografiemachines te verbeteren, waardoor de ontwikkeling van de industrie van de productie -industrie van micro -elektronica wordt ondersteund. Met de continue ontwikkeling van lithografietechnologie zal de optimalisatie en innovatie van optische componenten ook een groter potentieel bieden voor de productie van chips van de volgende generatie.
Voor meer inzichten en deskundig advies, bezoek onze website ophttps://www.jiujonoptics.com/voor meer informatie over onze producten en oplossingen.
Posttijd: Jan-02-2025
